Solutions ソリューション
半導体クリーニングプロセス
チャンバークリーニングの「終点」を見逃さず、やり過ぎない。
スループットと歩留まりを最大化するには、常にクリーンなチャンバー環境が不可欠です。不確実な時間制御によるクリーニングは、残留物の発生や、ガス・時間の無駄を招きます。
ASTONは、クリーニング完了の瞬間を分子レベルで正確に捉え、プロセスの生産性を飛躍的に向上させます。
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1. 最適な終点検知で、コストと時間を徹底削減
クリーニング中に発生する反応生成物をリアルタイムに監視。残留物が除去された瞬間を精密に検知し、プロセスを即座に停止させます。過剰なクリーニングをなくし、高価なガスと時間の浪費を根絶します。
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2. クリーニング不足による歩留まり低下を防止
万が一のクリーニング不足も確実に見抜き、次工程へ汚染を持ち越させません。パーティクルの発生源を断つことで、ウェーハ全面にわたる高い歩留まりの維持に貢献します。
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3. チャンバー状態の監視と予知保全への活用
クリーニング時間の推移をデータとして蓄積・分析。チャンバー部品の劣化や異常の兆候を早期に検知し、突発的な装置ダウンを防ぐ「予知保全」を可能にします。
データ駆動型のチャンバー管理が、製造コストの削減とスループットの最大化を両立。お客様の工場の収益性を、新たなレベルへと引き上げます。
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アプリケーションノート＜クリーニング＞
