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半導体成膜プロセス

半導体成膜プロセス

不良率ゼロを目指す、原子レベルの成膜コントロール

製品の品質と歩留まりを左右する、成膜プロセスの微細な「バラツキ」。
ASTONは、これまで見えなかった分子レベルの変化をリアルタイムで捉え、製造プロセスをかつてない精度で制御します。

不良率ゼロを目指す、原子レベルの成膜コントロール
  1. 1. 原子レベルでの精密把握

    膜厚や組成を比類なき精度で把握し、製品の品質を客観的なデータとして定量化。感覚や経験に頼らない、安定した生産体制を構築します。

  2. 2. バラツキの即時検知と最適化

    成膜中に発生するガスや不純物などのわずかな異常も見逃さず、常に最適なプロセス条件を自動で維持。品質の均一化を実現します。

  3. 3. 不良発生の根本的な防止

    プロセスの安定化により、不良の発生を根源から断ちます。トラブルを未然に防ぐことで、ダウンタイムを最小化し、生産性を最大化します。

原子レベルの精密管理が、お客様の製品の信頼性を最大化し、歩留まり向上とコスト削減に大きく貢献します。

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