ASTONに、新開発のガス導入系が加わりました。
このシステムは、配管の温調、幅広い圧力帯でのガスのコンダクタンス制御、そして比類ないリアルタイム性を、誰もが簡単に実現します。

これまで熟練の技術を要したガス導入プロセスを、高精度かつ安定的にコントロールすることで、半導体製造プロセスの測定精度と効率を劇的に向上。

複雑なガスフローを自在に操り、あなたの研究開発・製造現場に、新たな可能性と効率をもたらします。

試験チャンバーの圧力を一定に保った状態で、Ar、N₂、O₂をそれぞれ30秒毎に切り替え、その様子をASTONでモニタリングしたものです。最適化前の結果では、配管内でガスの滞留や拡散が生じ、期待される応答は得られていません。最適化後の結果では、それぞれのガスに関する信号が期待通りの応答を示します。