真空ポンプは通常、信頼性の高い製品ですが、過酷な半導体製造プロセスで使用される場合、予期せぬ故障が発生し、ダウンタイムやウェハーへのダメージの原因となることがあります。

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このような故障を予測するためには、信頼性の高いリアルタイムデータへのアクセスが必要です。このウェーハ損失を防ぐために必要なin-situ測定と制御は、非常に困難です。効果的なプロセス制御には、高い感度と再現性を持つリアルタイム測定が必要ですが、多くのプロセスガスやチャンバークリーニングガスは腐食性があり、CVD蒸着は凝縮した粒子ですべてを覆い隠してしまいます。残留ガス分析などのレガシー計測ソリューションは、腐食性ガスの影響を受けやすく、わずか数時間の操作で簡単に腐食してしまうことが知られています。

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そこで、Atonarpの計測プラットフォームAstonが、リアルタイムで実用的な情報を提供します。Astonは、データ駆動型のポンプ故障予測モデリングをサポートし、ドライポンプに出入りするガスの測定を行い、破壊的な腐食や堆積物の蓄積の予測モデリングを可能にする力を備えています。また、Astonは腐食性ガスに強く、真のin-situ計測ソリューションとして十分な堅牢性を備えています。

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詳しくは、アストンが半導体製造におけるポンプの予防保守をどのように実現しているか、アプリケーションブリーフをダウンロードしてご覧ください。